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Journal of the Korean Chemical Society (JKCS)

ISSN 1017-2548(Print)
ISSN 2234-8530(Online)
Volume 34, Number 5
JKCSEZ 34(5)
October 20, 1990 

A Study on the Structural Analysis of Amorphous Silicondioxide Prepared Sol-Gel Method with XRD

X-선 회절을 이용한 비정질 SiO2 Gel 의 구조 해석에 관한 연구
Dai Hyun Yoon, Ki Sun Kim, Hyun Chai Jung

윤대현, 김기선, 정현채
Sol-gel법을 통하여 만들어진 비정질 SiO2 gel들의 구조가 열처리 온도, 80, 250, 450 그리고 1000℃에 따라 변화하는 과정을 X-선 회절 강도 측정으로부터 구한 동경분포곡선을 이용하여 알아보았다. 그리고 이를 6개의 결정들과 비교하여 예상되는 구저를 밝혔다. 각 시편들은 용융법으로 구한 SiO2의 구조와 O-O결합싸을 제외하고는 가장 유사한 구저를 가지며 cubid형으로 나타났다.

The structural variation process of amorphous SiO2 gel upon heat-treatment conditions of 80, 250, 450 and 1000℃ has been studied by using the radial distribution functions (RDFobs) estimated from the X-ray diffraction intensities. The expected gel structure was determined by comparing the RDFobs with those for the other six standard samples selected appropriately. The structure of specimens prepared by sol-gel method is well consistent with that of fused SiO2 (β-cristobalite with cubic symmetry) except a slight difference in O-O band distance.

413 - 417
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