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Journal of the Korean Chemical Society (JKCS)

ISSN 1017-2548(Print)
ISSN 2234-8530(Online)
Volume 30, Number 3
JKCSEZ 30(3)
June 20, 1986 

 
Title
Spatial Distribution of Electron Number Density in an Inductively Coupled Plasma

유도결합 플라스마 공간내의 전자밀도 분포
Author
Beom Suk Choi

최범석
Keywords
Abstract
유도결합 플라스마 공간내의 전자밀도를 측정하였다. 전자밀도의 측정시 유도결합 플라스마의 작동조건은, (1) 냉각기체만 사용할 때, (2) 냉각기체와 운반기체만을 사용할 때, (3) 보통의 작동조건은, 즉 에아로졸을 포함한 운반기체를 사용할 때, (4) 약 88%의 에아로졸을 제거시켰을 때, 그리고 (5) 과량의 리튬을 주입시켰을 때로서 분류하였다. 보통의 작동조건에서 플라스마의 낮은 부분에서는 전자밀도가 상당히 감소하여 플라스마내의 가장 전자밀도가 큰 곳보다 약 80배 감소하였다. 이온화 방해영향을 일으키는 알칼리금속을 과량으로 넣었을 때 전자밀도의 변화는 관찰되지 않았고 유도코일의 power를 증가시키면 전자밀도도 증가하였다.

Spatial (radial and height) distribution of electron number density is measured for an inductively coupled plasma under five operating conditions: (1) no carrier gas, (2) carrier gas without aerosel, (3) carrier gas with aerosol, (4) carrier gas with desolvated aerosol, and (5) carrier gas with aerosol and excess lithium. A complete RF power mapping of electron density is obtained. The plasma electrons for a typical analytical torch are observed to be hollow at the radial center in the region close to the induction coil, but diffuse rapidly toward the center in the higher region of the plasma. The presence of excess Li makes no significant change in the electron density profiles. The increases in the RF power levels increase the values of electron density uniformly across the radial coordinate.

Page
327 - 332
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