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Journal of the Korean Chemical Society (JKCS)

ISSN 1017-2548(Print)
ISSN 2234-8530(Online)
Volume 54, Number 1
JKCSEZ 54(1)
February 20, 2010 
 
Title
 Low Temperature Preparation and Photocatalytic Activity of TiO2-xNx

TiO2-xNx의 저온제조 및 광화학적 특성
Author
 요 약 용액침전법에 의해 TiO2 및 TiO2 xNx를 제조하였다 TiO2 xNx 시료는 순수한 TiO2의 띠 간격인 3.20 eV (390 nm 흡광)로 부터 1.77 eV (700 nm 흡광)까지 띠 간격이 줄어들게 되어 자외선 영역 뿐 아니라 가시광선 전체 영역에서도 흡광이 발생하였다 가시광선에서의 광촉매 활성에서도 TiO2 xNx

정동운*
Keywords
 TiO2, 질소치환-TiO2, 광촉매, 띠 간격 , TiO2, N-doped TiO2, Photocatalyst, Band gap
Abstract
 용액침전법에 의해 TiO2 및 TiO2-xNx를 제조하였다. TiO2-xNx 시료는 순수한 TiO2의 띠 간격인 3.20 eV (390 nm 흡광)로 부터 1.77 eV (700 nm 흡광)까지 띠 간격이 줄어들게 되어 자외선 영역 뿐 아니라 가시광선 전체 영역에서도 흡광이 발생하였다. 가시광선에서의 광촉매 활성에서도 TiO2-xNx 시료는 순수한 TiO2 및 P-25보다도 더 높은 활성도를 나타냈다.

TiO2 and N-substituted TiO2-xNx were synthesized by using precipitation method. TiO2-xNx compound absorbed whole UV light as well as long wavelength of visible light (400 - 700 nm) because of the change of band gap from 3.2 eV to 1.77 eV. Results obtained revealed that TiO2-xNx showed higher activity than pure TiO2 or P-25 for visible-photocatalytic degradation of 1,4-dichlorobenzene.

Page
 120 - 124
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