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Journal of the Korean Chemical Society (JKCS)

ISSN 1017-2548(Print)
ISSN 2234-8530(Online)
Volume 45, Number 6
JKCSEZ 45(6)
December 20, 2001 

 
Title
Silica Sulfuric Acid/Wet SiO2 as a Novel System for the Deprotection of Acetals by Using Microwave Irradiation under Solvent Free Conditions

무용매조건하에서 황산/젖은 SiO2와 마이크로웨이브를 이용한 아세탈의 새로운 탈보호기 방법
Author
BiBi Fathemeh Mirjalili, Mohammad Ali Zolfigol, Abdolhamid Bamoniri

BiBi Fathemeh Mirjalili, Mohammad Ali Zolfigol, Abdolhamid Bamoniri
Keywords
Abstract
클로로술폰산을 실리카겔과 반응시키면 실리카겔 표면에 황산이 공유결합으로 고정된 실리카황산을 얻게 된다. 무용매 조건하에서 마이크로웨이브를 쪼여주면서 실리카 황산과 젖은 SiO2를 함께 사용하게 되면 아세탈을 화합물로 변화시키는 효과적인 탈아세탈 시약으로 사용할 수 있다.

Neat chlorosulfonic acid reacts with silica gel to give silica sulfuric acid in which sulfuric acid is immobilized on the surface of silica gel via covalent bond. A combination of silica sulfuric acid and carbonyl derivatives by using microwave irradiation under solvent free conditions.

Page
546 - 548
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